MYCIE PODŁOŻY MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) MYCIE PODŁOŻY

CEL ĆWICZENIA MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) CEL ĆWICZENIA Celem ćwiczenia jest przedstawienie sposobów przygotowania płytek krzemowych do procesów technologicznych. Operację tę nazywamy potocznie czyszczeniem (myciem) podłoży półprzewodnikowych. W trakcie ćwiczenia zwracamy uwagę na: Czystość odczynników chemicznych używanych w procedurach mycia, Rolę poszczególnych grup odczynników w procesie oczyszczania powierzchni Urządzenia stosowane w procesach mycia

Wybór podłoża MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Wybór podłoża

Przygotowanie płytek krzemowych do procesów technologicznych MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Przygotowanie płytek krzemowych do procesów technologicznych Odpowiednia czystość podłoża jest konieczna przed procesami: UTLENIANIA TERMICZNEGO, DYFUZJI, EPITAKSJI, NAKŁADANIA WARSTW KOPIOWYCH , NAPAROWYWANIA METALI

MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) ZANIECZYSZCZENIA Zanieczyszczenia są głównie pochodzenia organicznego – warstwa tłuszczy z umieszczonymi w niej cząstkami kurzu, sadzy, i innych cząstek pochodzenia mineralnego lub metalicznego

SPOSOBY CZYSZCZENIA PODŁOŻY PÓŁPRZEWODNIKOWYCH MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) SPOSOBY CZYSZCZENIA PODŁOŻY PÓŁPRZEWODNIKOWYCH Najczęstszymi sposobami uzyskania idealnie czystej powierzchni podłoża półprzewodnikowego jest: Czyszczenie chemiczne, Czyszczenie ultradźwiękami, Obróbka cieplna w próżni, Bombardowanie elektronowe, Bombardowanie jonowe.

CZYSZCZENIE CHEMICZNE MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) CZYSZCZENIE CHEMICZNE Powierzchnia podłoża półprzewodnikowego poddana jest działaniu odczynników chemicznych rozpuszczających bądź trawiących substancje zanieczyszczające

CZYSZCZENIE ULTRADŹWIĘKAMI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) CZYSZCZENIE ULTRADŹWIĘKAMI W wyniku oddziaływania ultradźwięków w cieczy powstają i znikają pęcherzyki kawitacyjne. W czasie pękania tych pęcherzyków wyzwala się duże ciśnienie hydrostatyczne, które ułatwia oderwanie się cząsteczek brudu

CZYSZCZENIE ULTRADŹWIĘKAMI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) CZYSZCZENIE ULTRADŹWIĘKAMI W wyniku oddziaływania ultradźwięków w cieczy powstają i znikają pęcherzyki kawitacyjne. W czasie pękania tych pęcherzyków wyzwala się duże ciśnienie hydrostatyczne, które ułatwia oderwanie się cząsteczek brudu

CZYSZCZENIE ULTRADŹWIĘKAMI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) CZYSZCZENIE ULTRADŹWIĘKAMI W wyniku oddziaływania ultradźwięków w cieczy powstają i znikają pęcherzyki kawitacyjne. W czasie pękania tych pęcherzyków wyzwala się duże ciśnienie hydrostatyczne, które ułatwia oderwanie się cząsteczek brudu

CZYSZCZENIE ULTRADŹWIĘKAMI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) CZYSZCZENIE ULTRADŹWIĘKAMI W wyniku oddziaływania ultradźwięków w cieczy powstają i znikają pęcherzyki kawitacyjne. W czasie pękania tych pęcherzyków wyzwala się duże ciśnienie hydrostatyczne, które ułatwia oderwanie się cząsteczek brudu

OBRÓBKA CIEPLNA W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) OBRÓBKA CIEPLNA W PRÓŻNI Wygrzewanie materiałów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa PRÓŻNIA

OBRÓBKA CIEPLNA W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) OBRÓBKA CIEPLNA W PRÓŻNI Wygrzewanie materiałów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa PRÓŻNIA

OBRÓBKA CIEPLNA W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) OBRÓBKA CIEPLNA W PRÓŻNI Wygrzewanie materiałów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa PRÓŻNIA

OBRÓBKA CIEPLNA W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) OBRÓBKA CIEPLNA W PRÓŻNI Wygrzewanie materiałów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa PRÓŻNIA

BOMBARDOWANIE ELEKTRONAMI W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) BOMBARDOWANIE ELEKTRONAMI W PRÓŻNI Bombardowanie powierzchni materiałów wiązką elektronów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa PRÓŻNIA

BOMBARDOWANIE ELEKTRONAMI W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) BOMBARDOWANIE ELEKTRONAMI W PRÓŻNI Bombardowanie powierzchni materiałów wiązką elektronów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa Wysokoenergetyczna wiązka elektronów PRÓŻNIA

BOMBARDOWANIE ELEKTRONAMI W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) BOMBARDOWANIE ELEKTRONAMI W PRÓŻNI Bombardowanie powierzchni materiałów wiązką elektronów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa PRÓŻNIA

BOMBARDOWANIE ELEKTRONAMI W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) BOMBARDOWANIE ELEKTRONAMI W PRÓŻNI Bombardowanie powierzchni materiałów wiązką elektronów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa PRÓŻNIA

BOMBARDOWANIE JONAMI W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) BOMBARDOWANIE JONAMI W PRÓŻNI Bombardowanie powierzchni materiałów wiązką jonów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa PRÓŻNIA

BOMBARDOWANIE JONAMI W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) BOMBARDOWANIE JONAMI W PRÓŻNI Bombardowanie powierzchni materiałów wiązką jonów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa Wysokoenergetyczna wiązka jonów PRÓŻNIA

BOMBARDOWANIE JONAMI W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) BOMBARDOWANIE JONAMI W PRÓŻNI Bombardowanie powierzchni materiałów wiązką jonów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa PRÓŻNIA

BOMBARDOWANIE JONAMI W PRÓŻNI MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) BOMBARDOWANIE JONAMI W PRÓŻNI Bombardowanie powierzchni materiałów wiązką jonów w próżni powoduje desorpcję zanieczyszczeń z przypowierzchniowych warstw podłoży półprzewodnikowych Komora próżniowa PRÓŻNIA

CZYSZCZENIE CHEMICZNE PODŁOŻY PÓŁPRZEWODNIKOWYCH MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) CZYSZCZENIE CHEMICZNE PODŁOŻY PÓŁPRZEWODNIKOWYCH

Nazwy i oznaczenia kolejnych poziomów czystości odczynników MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) CZYSTOŚĆ ODCZYNNIKÓW CHEMICZNYCH Nazwy i oznaczenia kolejnych poziomów czystości odczynników Produkt techniczny (techn.) – (90 – 99)% , Czysty (cz.) – (99.0 – 99,9)%, Czysty do analizy (cz.d.a.) – (99,9 – 99,99)%, Chemicznie czysty (ch.cz.) – (99,99 – 99,999)% Chemicznie czysty do pp (ch.cz. do pp.)

CZYSTOŚĆ ODCZYNNIKÓW CHEMICZNYCH MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) CZYSTOŚĆ ODCZYNNIKÓW CHEMICZNYCH ppm – part per milion (1/1 000 000) określenie ilości cząsteczek związku chemicznego na 1 milion cząsteczek roztworu ppb – part per bilion (miliard) (1/1 000 000 000) określenie ilości cząsteczek związku chemicznego na 1 miliard cząsteczek roztworu

PROCEDURY MYCIA T> 70°C t≈15 min. MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) PROCEDURY MYCIA DI NH4OH H2O2 DI >10 MΩcm Procedura oparta na wykorzystaniu myjących właściwości wodorotlenku amonu i nadtlenku wodoru T> 70°C t≈15 min. Na przestrzeni wielu lat opracowano wiele procedur mycia. Ważna dla rozwoju współczesnego przemysłu półprzewodnikowego była procedura RCA Opracowana przez pracownika Radio Corporation of America na potrzeby przemysłu półprzewodnikowego

PROCEDURY MYCIA T> 70°C t≈15 min. MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) PROCEDURY MYCIA DI NH4OH H2O2 DI >10 MΩcm Procedura oparta na wykorzystaniu myjących właściwości wodorotlenku amonu i nadtlenku wodoru T> 70°C t≈15 min. Na przestrzeni wielu lat opracowano wiele procedur mycia. Ważna dla rozwoju współczesnego przemysłu półprzewodnikowego była procedura RCA Opracowana przez pracownika Radio Corporation of America na potrzeby przemysłu półprzewodnikowego

PROCEDURA „IMEC – CLEAN” MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) PROCEDURA „IMEC – CLEAN” Procedura polegająca na odtłuszczaniu, myciu zasadniczym i trawieniu DI DI DI C2H5OH H2SO4 + H2O2 HF

w niej cząstkami kurzu, sadzy i innych części pochodzenia mineralnego MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Odtłuszczanie - mycie w alkoholu etylowym Usuwanie zanieczyszczeń organicznych – warstwa tłuszczy z umieszczonymi w niej cząstkami kurzu, sadzy i innych części pochodzenia mineralnego i organicznego C2H5OH

mycie w płuczce ultradźwiękowej Płuczka ultradźwiekowa MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Odtłuszczanie mycie w płuczce ultradźwiękowej Płuczka ultradźwiekowa

mycie w płuczce ultradźwiękowej Płuczka ultradźwiękowa MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Odtłuszczanie mycie w płuczce ultradźwiękowej Płuczka ultradźwiękowa Myte elementy Ciecz sprzęgająca (woda)

mycie w płuczce ultradźwiękowej MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Odtłuszczanie mycie w płuczce ultradźwiękowej Pęcherzyki kawitacyjne Alkohol etylowy

mycie w płuczce ultradźwiękowej MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Odtłuszczanie mycie w płuczce ultradźwiękowej Alkohol etylowy

mycie w płuczce ultradźwiękowej MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Odtłuszczanie mycie w płuczce ultradźwiękowej Alkohol etylowy

Płukanie w wodzie dejonizowanej Co najmniej trzykrotna dekantacja MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Płukanie w wodzie dejonizowanej Płukanie powinno być wykonane w wodzie dejonizowanej o rezystywności na poziomie > 10 MΩcm Co najmniej trzykrotna dekantacja Woda DI

Mycie zasadnicze w roztworze silnych utleniaczy MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Mycie zasadnicze w roztworze silnych utleniaczy Czyszczenie zasadnicze przeprowadza się w roztworach silnych utleniaczy takich jak: H2SO4, H2O2, HNO3 H2SO4 + H2O2

Mycie zasadnicze w roztworze silnych utleniaczy MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Mycie zasadnicze w roztworze silnych utleniaczy Łaźnia wodna

Mycie zasadnicze w roztworze silnych utleniaczy MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Mycie zasadnicze w roztworze silnych utleniaczy Łaźnia wodna (podgrzanie kąpieli myjącej do temperatury > 90°C Myte elementy woda

Mycie zasadnicze w roztworze silnych utleniaczy MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Mycie zasadnicze w roztworze silnych utleniaczy Roztwór kwasu siarkowego + nadtlenek wodoru

Płukanie w wodzie dejonizowanej Co najmniej trzykrotna dekantacja MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Płukanie w wodzie dejonizowanej Płukanie powinno być wykonane w wodzie dejonizowanej o rezystywności na poziomie > 10 MΩcm Co najmniej trzykrotna dekantacja Woda DI

trawienie powierzchni MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Mycie końcowe trawienie powierzchni Ostateczny efekt oczyszczenia powierzchni płytki krzemowej uzyskuje się poprzez strawienie wierzchniej warstwy tlenkowej w stężonym HF HF

trawienie powierzchni MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Mycie końcowe trawienie powierzchni Trawienie należy przeprowadzić w zlewce teflonowej odpornej na działania kwasu HF

trawienie powierzchni MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Mycie końcowe trawienie powierzchni Kwas Fluorowodorowy (HF) Oczyszczona powierzchnia płytki krzemowej

Płukanie w wodzie dejonizowanej Co najmniej trzykrotna dekantacja MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Płukanie w wodzie dejonizowanej Płukanie powinno być wykonane w wodzie dejonizowanej o rezystywności na poziomie > 10 MΩcm Co najmniej trzykrotna dekantacja Woda DI

OCENA WIZUALNA WYGLĄDU MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) OCENA WIZUALNA WYGLĄDU POWIERZCHNI PŁYTKI hydrofilność jednorodność tekstura

SUSZENIE PODŁOŻY KRZEMOWYCH MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) SUSZENIE PODŁOŻY KRZEMOWYCH Suszenie poprzez odwirowanie Mycie w koszyczkach teflonowych

SUSZENIE PODŁOŻY KRZEMOWYCH MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) SUSZENIE PODŁOŻY KRZEMOWYCH Transport wysuszonych płytek w kasetach kwarcowych Zdejmowanie wysuszonej płytki z talerza wirówki

OCENA PODŁOŻY PO SUSZENIU MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) OCENA PODŁOŻY PO SUSZENIU Czysta płytka krzemowa Płytka warstwą tlenku termicznego