TRAWIENIE KRZEMU TEKSTURYZACJA

Slides:



Advertisements
Podobne prezentacje
Cele wykładu Celem wykładu jest przedstawienie: konfiguracji połączeń,
Advertisements

Elementy Elektroniczne
Tranzystor Trójkońcówkowy półprzewodnikowy element elektroniczny, posiadający zdolność wzmacniania sygnału elektrycznego. Nazwa tranzystor pochodzi z angielskiego.
KOROZJA METALI.
Instytut Metrologii i Automatyki Elektrotechnicznej
Cienkowarstwowe ogniwa słoneczne – badania i rozwój
mgr. Sylwester Gawinkowski
Wodorotlenek Potasu KOH.
Podstawy teorii przewodnictwa
WYKŁAD 15 INTERFEROMETRY; WYBRANE PRZYKŁADY
FIZYCZNE PODSTAWY MIKROTECHNOLOGII
FIZYCZNE PODSTAWY MIKROTECHNOLOGII
FIZYCZNE PODSTAWY MIKROTECHNOLOGII
Desorpcja wodoru w stopach palladu modelowym układzie elektrody ujemnej w ogniwach wodorkowych. Ewa Kalinowska Pracownia Elektrochemicznych Źródeł Energii.
Chemia Ogólna Wykład I.
Elektrochemiczne właściwości metalicznego renu
Powłoki cienkowarstwowe
Elementy technologii mikroelementów i mikrosystemów
Marcin Miczek [マルチン・ミツェク]
Procedura pomiarowa X M M* N Z V Rozdzielczość Mezurand M Selektywność
Elektronika z technikami pomiarowymi
Mierzy się odkształcenie elementu sprężystego ciśnieniomierza
Czujniki do pomiaru ciśnień Mierzy się:a) nadciśnienie b) ciśn. absolutne c) różnicę ciśnień Metoda pomiaru : Mierzy się odkształcenie elementu sprężystego.
Przetworniki ciśnienia. Elementy odkształcalne rurkowe JednorodnaBourdona Z wewnętrznym trzpieniemAsymetryczna.
Autor: Tomasz Ksiądzyk
Aula IChF PAN, W-wa, ul. Kasprzaka 44/52
Tranzystory z izolowaną bramką
Bramki logiczne w standardzie TTL
FOTOWOLTAIKA -PRĄD ZE SŁOŃCA energia na dziś, energia na jutro
BUDOWA, OTRZYMYWANIE, WŁAŚCIWOŚCI I ZASTOSOWANIE
Elementy składowe komputera
KWASY NIEORGANICZNE POZIOM PONADPODSTAWOWY Opracowanie
Główne zastosowania laserów w mechanice i mikromechanice Znakowanie – główne zastosowanie Cięcie Wypalanie Spawanie Modelowanie kształtu.
Fenole.
3. Elementy półprzewodnikowe i układy scalone c.d.
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ Wytwarzanie tranzystora NMOS.
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ Proces ze studnią typu n.
Rodzaje środków czystości
TECHNOLOGIE MIKROELEKTRONICZNE Dr inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, Gliwice (
TECHNOLOGIE MIKROELEKTRONICZNE Dr inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, Gliwice (
TECHNOLOGIE MIKROELEKTRONICZNE Dr inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, Gliwice (
TECHNOLOGIE MIKROELEKTRONICZNE Dr inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, Gliwice (
TECHNOLOGIE MIKROELEKTRONICZNE Dr inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, Gliwice (
TECHNOLOGIE MIKROELEKTRONICZNE Dr inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, Gliwice (
Korozja -Korozja chemiczna, Korozja elektrochemiczna,
występowanie, właściwości krzemu ważniejsze związki krzemu
TECHNOLOGIE MIKROELEKTRONICZNE Dr inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, Gliwice (
TECHNOLOGIE MIKROELEKTRONICZNE Dr inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, Gliwice (
Fizyka Prezentacja na temat: „Półprzewodniki i urządzenia półprzewodnikowe” MATEUSZ DOBRY Kraków, 2015/2016.
TECHNOLOGIE MIKROELEKTRONICZNE Dr inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, Gliwice (
Wodorotlenki i zasady -budowa i nazewnictwo,
TECHNOLOGIE MIKROELEKTRONICZNE Dr inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, Gliwice (
Węglowce – cyna i ołów Cyna i jej właściwości oraz związki
Własności grafenu Autor: Krzysztof Kowalik Kierunek: Zarządzanie i inżynieria produkcji Data wygłoszenia:
POMIARY PARAMETRÓW OGNIW FOTOWOLTAICZNYCH. PORÓWNANIE SPRAWNOŚCI POZYSKIWANIA ENERGII ELEKTRYCZNEJ PRZY WYKORZYSTANIU RÓŻNYCH TECHNOLOGII PORÓWNANIE SPRAWNOŚCI.
Elektrody jonoselektywne Elektrody krystaliczne homogeniczne.
Węglowce – cyna i ołów Cyna i jej właściwości oraz związki
MYCIE PODŁOŻY MYCIE PODŁOŻY
DOMIESZKOWANIE DYFUZYJNE
Synteza kwasu azotowego z zastosowaniem technik
dr inż. Zbigniew Wyszogrodzki
związki wodoru z metalami - wodorki, związki wodoru z niemetalami
WYTWARZANIE WARSTW DWUTLENKU KRZEMU
Czujniki mikromechaniczne
Analiza jakościowa w chemii nieorganicznej – kationy
DOMIESZKOWANIE DYFUZJA
Zygmunt Kubiak Instytut Informatyki Politechnika Poznańska
Amidy kwasów karboksylowych i mocznik
Procesy wieloetapowe Przykładowe zadania z rozwiązaniem:
Aminokwasy amfoteryczny charakter aminokwasów,
Zapis prezentacji:

TRAWIENIE KRZEMU TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) TRAWIENIE KRZEMU TEKSTURYZACJA

TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) CEL ĆWICZENIA Celem ćwiczenia jest przedstawienie metod trawienia powierzchni podłoży krzemowych (trawienia krzemu). W trakcie ćwiczenia studenci poznają sposoby realizacji procesu trawienia przy wykorzystaniu różnych roztworów. W trakcie ćwiczenia zwracamy uwagę na: Czystość odczynników chemicznych używanych w procedurach trawienia krzemu, Rolę poszczególnych grup odczynników w procesie trawienia powierzchni krzemu Urządzenia stosowane w procesach trawienia

TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) W produkcji przyrządów półprzewodnikowych bardzo istotne jest otrzymanie płaskiej i gładkiej powierzchni płytek, co umożliwia wykonanie operacji technologicznych, zwłaszcza w procesach fotolitografii Naświetlanie płytki przez maskę Maska z rysunkiem Płytka pokryta warstwą fotorezystu

PRZEBIEG REAKCJI W ŚRODOWISKU KWAŚNYM TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Krzem rozpuszcza się w roztworach ługów oraz w mieszaninach kwasu azotowego i fluorowodorowego HNO3 HF DI >10 MΩcm PRZEBIEG REAKCJI W ŚRODOWISKU KWAŚNYM

PRZEBIEG REAKCJI W ŚRODOWISKU KWAŚNYM TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Krzem rozpuszcza się w roztworach ługów oraz w mieszaninach kwasu azotowego i fluorowodorowego HNO3 HF DI >10 MΩcm PRZEBIEG REAKCJI W ŚRODOWISKU KWAŚNYM

PRZEBIEG REAKCJI W ŚRODOWISKU ZASADOWYM TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Krzem rozpuszcza się w roztworach ługów oraz w mieszaninach kwasu azotowego i fluorowodorowego KOH H2O DI >10 MΩcm PRZEBIEG REAKCJI W ŚRODOWISKU ZASADOWYM

PRZEBIEG REAKCJI W ŚRODOWISKU ZASADOWYM TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Krzem rozpuszcza się w roztworach ługów oraz w mieszaninach kwasu azotowego i fluorowodorowego KOH H2O DI >10 MΩcm PRZEBIEG REAKCJI W ŚRODOWISKU ZASADOWYM

TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) W środowisku zasadowym [hydrazyna (N2H2), wodorotlenek potasu (KOH)] szybkość trawienia zależy od orientacji krystalograficznej podłoża 0,54 nm 0.54 nm (100) 0,54 nm (111) 4 µm/min 0,4 µm/min

TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Trawienie - rowki

TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Trawienie - rowki [100] [111]

TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Trawienie - rowki

TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Trawienie - rowki 54,7°

n+ n+ p n n+ TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) TRANZYSTOR BIPOLARNY Z IZOLACJĄ DIELEKTRYCZNĄ W WERSJI DO UKŁADÓW SCALONYCH OBSZARY UFORMOWANE METODĄ TRAWIENIA WARSTWA DIELEKTRYCZNA SiO2 emiter ELEKTRODY METALOWE baza kolektor n+ n+ p n n+ POLIKRZEM

TRANZYSTOR POLOWY Z IZOLOWANĄ BRAMKĄ - VMOS TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) TRANZYSTOR POLOWY Z IZOLOWANĄ BRAMKĄ - VMOS BRAMKA ŹRÓDŁO ŹRÓDŁO OBSZARY UFORMOWANE METODĄ TRAWIENIA n+ n+ P P n- n+ DREN

Teksturyzacja - piramidy TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Teksturyzacja - piramidy

Teksturyzacja - piramidy TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Teksturyzacja - piramidy

Teksturyzacja - piramidy TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Teksturyzacja - piramidy

Teksturyzacja - piramidy TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Teksturyzacja - piramidy

Teksturyzacja powierzchni płytki TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Teksturyzacja powierzchni płytki

Teksturyzacja powierzchni płytki TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Teksturyzacja powierzchni płytki Wielokrotne odbicie promienia świetlnego

TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Elektroda przednia „ażurowa” Elektroda tylna

Teksturyzacja powierzchni płytki TRAWIENIE KRZEMU -TEKSTURYZACJA Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) Teksturyzacja powierzchni płytki

Si-n+ Si-p Si-p+ Ag Si3N4 SiO2 Ag/Al OBSERWACJE MIKROSKOPOWE STRUKTUR PÓŁPRZEWODNIKOWYCH, ELEMENTÓW I UKŁADÓW Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) STRUKTURA KRZEMOWEGO OGNIWA SŁONECZNEGO Si-n+ Si-p Si-p+ TEKSTURYZACJA POWIERZCHNI Źródło: N. Wehkamp, A. Fell, J Bartscha, F. Granek „ Laser Chemical Metal Deposition for Silicon Solar Cell Metallization”, 2012 Ścieżka elektrody zbierającej Wielokrotne odbicie wiązki światła poprawia sprawność przetwarzania Ag Si3N4 SiO2 Ag/Al

DLA WSPÓŁCZESNEJ ELEKTRONIKI Dr hab..inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) MATERIAŁY TLENKOWE DLA WSPÓŁCZESNEJ ELEKTRONIKI ZASTOSOWANIE TEKSTURYZACJI W KONSTRUKCJI WSPÓŁCZESNYHC OGNIW FOTOWOLTAICZNYCH ALD – AL2O3 WARSTWA PASYWUJACA ALUMINIOWY TYLNY KONTAKT KONTAKTY PUNKTOWE BAZA P (SI) EMITER N+ (SI) WARSTWA ARC TESKTURYZACJA ELEKTRODY ZBIERAJĄCE

MIKROMECHANIKA KRZEMOWA CZUJNIK PRZYSPIESZENIA MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) MIKROMECHANIKA KRZEMOWA MEMBRANA BELKA CZUJNIK CISNIENIA CZUJNIK PRZYSPIESZENIA

MIKROMECHANIKA KRZEMOWA TRZY PODSTAWOWE STRUKTURY MIKROMECHANICZNE MYCIE PODŁOŻY Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, Instytut Elektroniki, Politechnika Śląska, Akademicka 16, 44-100 Gliwice (email: Krzysztof.Waczynski@polsl.pl) MIKROMECHANIKA KRZEMOWA TRZY PODSTAWOWE STRUKTURY MIKROMECHANICZNE MEMBRANA BELKA MOSTEK